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細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的
來源:
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作者:上海雋思半導(dǎo)體設(shè)備部
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發(fā)布時(shí)間: 2024-12-17
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曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的
光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤，因?yàn)檫@次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡稱后烘或堅(jiān)膜，英文為Post Exposure Bake（PEB）。
曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式，使得光化學(xué)反應(yīng)能夠充分完成。
對于酚醛樹脂體系的光刻膠，PEB可以擴(kuò)散感光劑以消除駐波效應(yīng)。并且，PEB溫度不同時(shí)，感光劑的擴(kuò)散距離不同，消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時(shí)，消除駐波效應(yīng)最明顯。
對于化學(xué)放大型光刻膠，在后烘過程中，光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護(hù)反應(yīng)(Deprotection Reaction)，又稱為脫保護(hù)反應(yīng)。
大量實(shí)驗(yàn)表明，烤膠臺(tái)烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設(shè)置后烘工藝時(shí)， 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤性能
加熱尺寸：220*220mm（可定制）,適用于?200毫米（8英寸）圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品；
溫度范圍：RT～300°C
溫度精度：0.1°C；
溫度均勻性：≤±0.5℃；
電動(dòng)頂針調(diào)節(jié)高度: 0～30mm；
加熱臺(tái)表面：耐腐蝕硬質(zhì)陽極氧化鋁制成；
控制器單元：7寸全彩觸摸屏，高級(jí)PLC控制，實(shí)現(xiàn)在指定時(shí)間內(nèi)自動(dòng)升降，可以定時(shí)取片；
無塵等級(jí)：Class100;
溫度范圍：RT～300/450℃；
溫度均勻度：200℃±3℃;
溫度波動(dòng)度：±0.5℃（空載）
工作尺寸（mm）：
450×450×450
500×500×500
600×700×800（可定制）
可擴(kuò)展功能：
氧濃度檢測，無塵無氧烘箱
智能聯(lián)網(wǎng)功能，MES等工業(yè)自動(dòng)化軟件
掃碼槍，掃碼溯源，一鍵讀取
自動(dòng)門控，上位機(jī)程控，機(jī)械手搬運(yùn)產(chǎn)品
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